描述

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主要用途

常用作薄膜涂層。具有高的硬度和良好的耐磨性，是一種很受重視的耐磨涂層。用空心陰極離子鍍制備的氮化鉻膜具有Cr+Cr2N兩相組織，晶粒度為20～70nm，硬度為HV22GPa。經真空退火后，能提高到HV35.4GPa。其耐磨性優于CrC膜。反應濺射法氮化鉻膜能得到Cr+Cr2N或單相CrN兩種組織，其硬度均在HV20～25GPa(塊體CrN硬度HV11GPa)。用作耐磨涂層。

合成方法

1.將低碳鉻鐵在真空加熱爐于1150℃氮化得到粗氮化鉻鐵，再經硫酸處理，除去鐵雜質。經過濾、水洗、干燥，即得氮化鉻。也可由氨和鹵化鉻反應制得。

2.將高純度電解鉻粉末，在150mmHg(1mmHg=133.322Pa)柱的氮氣流中，于1060℃下加熱160h之后，排出氮氣并進行急冷，則制得Cr2N。

3.低碳鉻鐵碎至＜３ｍｍ，取1000ｋｇ在真空加熱爐于1150℃及氮壓0.0987ＭＰａ氮化24ｈ，得到粗氮化鉻鐵。冷后粉碎至＜０．３ｍｍ，取１０００ｋｇ在９５０℃再次進行氮化（其他條件同前）。冷后粉碎至＜0.3mm，放進１ｍ３反應器，用硫酸處理１６ｈ，將鐵溶除。過濾、水洗、干燥。回收１０９ｋｇ氮化鉻，含Ｃｒ７８．６％，Ｎ２１９．７％，Ｏ２０．８０％，Ｆｅ０．５９％，Ｃ０．１３％。也可由氨和鹵化鉻反應制得。